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Dymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng) 參考價(jià)：面議

參考價(jià)：面議型號(hào)：HERCULES
光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過(guò)集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動(dòng)化功能，完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機(jī)Track...
型號(hào)： HERCULES 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比

HERCULESEVG納米壓印光刻機(jī)

2024/11/9 15:09:323851
Dymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價(jià)：面議

參考價(jià)：面議型號(hào)：IQ Aligner NT
?新型IQ Aligner NT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件，新的晶圓處理硬件，可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件...
型號(hào)： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比

光刻機(jī)光刻掩膜掩模曝光

2024/11/9 16:20:011754
EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 參考價(jià)：面議

參考價(jià)：面議型號(hào)：
EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 特色：EVG ® 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。
型號(hào)：品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比

自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格納米壓印機(jī)

2024/11/9 13:13:263467
IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價(jià)：面議

參考價(jià)：面議型號(hào)：
IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，進(jìn)行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達(dá)200毫米。
型號(hào)：品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比

自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價(jià)格

2024/11/9 12:34:332452
EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 參考價(jià)：面議

參考價(jià)：面議型號(hào)：EVG610
EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610（單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 微流控納米壓印）支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對(duì)準(zhǔn)...
型號(hào)： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 對(duì)比

EVG光刻機(jī)微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機(jī)

2024/11/9 12:10:299268