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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類(lèi) | 其它 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
“The Grand EPMA" 誕生
搭載高質(zhì)量場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)
將島津EPMA分析性能發(fā)揮得更好
從SEM觀察條件到1μA量級(jí)，在各種束流條件下都擁有*空間分辨率的場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀，將分析性能發(fā)揮得更好。
EPMA-8050G 電子探針顯微分析儀，高水準(zhǔn)的EPMA誕生！
EPMA-8050G 電子探針顯微分析儀特點(diǎn)：
更高分辨率面分析
對(duì)碳膜上Sn球放大3萬(wàn)倍進(jìn)行面分析。即使是SE圖像（左側(cè)）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側(cè)）上也是清晰可見(jiàn)。
優(yōu)異的技術(shù)實(shí)現(xiàn)
■ *的空間分辨率
EPMA可達(dá)到的更高級(jí)別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率。
（加速電壓10kV時(shí)20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
■ 二次電子圖像高分辨率高達(dá)3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實(shí)例。實(shí)現(xiàn)更高分辨率
3nm（@30kV）。相對(duì)較高的束流也可將電子束壓
細(xì)聚焦，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像。
■ 大束流更高靈敏度分析
實(shí)現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的超大束流。
全束流范圍無(wú)需更換物鏡光闌。
■ 至多可同時(shí)搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無(wú)人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
至多可同時(shí)搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。
■ 全部分析操作簡(jiǎn)單易懂
全部操作僅靠一個(gè)鼠標(biāo)就可進(jìn)行的先進(jìn)可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導(dǎo)航模式，自動(dòng)指引直至生成報(bào)告。
更高靈敏度面分析
使用1μA束流對(duì)不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析。精細(xì)地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側(cè)），同時(shí)也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側(cè)）。
實(shí)現(xiàn)微區(qū)更高靈敏度分析的技術(shù)
1 高亮度肖特基發(fā)射體
場(chǎng)發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析不可少的穩(wěn)定大電流。
2 EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來(lái)形成交叉點(diǎn)的。簡(jiǎn)單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時(shí)全部電流條件下設(shè)定更合適的打開(kāi)角度，將電子束壓縮到更細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。
3 更高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。
4 高靈敏度X射線譜儀
至多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí)，又可減小樣品對(duì)X射線的吸收，實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。