高真空定向凝固系統(tǒng)--DHN400 參考價(jià)：面議
高真空定向凝固系統(tǒng)--DHN400真空室結(jié)構(gòu):圓筒形上開(kāi)蓋真空室尺寸::φ440x500mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:無(wú)樣品尺寸，溫度:約p80m...
高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)--XC500 參考價(jià)：面議
高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)--XC500真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開(kāi)門(mén)真空室尺寸:φ500X300mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:樣品尺寸，溫度:感應(yīng)熔煉1...
高真空電子?xùn)|蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700 參考價(jià)：面議
高真空電子?xùn)|蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700真空室結(jié)構(gòu): U形前開(kāi)門(mén)真空室尺寸:700x700x900mm極限真空度:≤6.6E-5Pa沉積源:6個(gè)40cc坩堝樣...
高真空電弧熔煉及吸鑄系統(tǒng)--DHL400 參考價(jià)：面議
高真空電弧熔煉及吸鑄系統(tǒng)--DHL400真空室結(jié)構(gòu):圓筒形上升蓋真空室尺寸:φ400X320mm極限真空度:≤8.0E-5Pa沉積源:無(wú)樣品尺寸，溫度:占地面積...
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450 參考價(jià)：面議
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450真空室結(jié)構(gòu):球形前開(kāi)門(mén)真空室尺寸:450mm極限真空度:≤6.67E-6Pa沉積源:2英寸靶材，4個(gè)樣品尺寸，溫度...
高真空電子?xùn)|及熱阻薄膜沉積系統(tǒng)--DZS500 參考價(jià)：面議
高真空電子?xùn)|及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--DZS500真空室結(jié)構(gòu):U形前開(kāi)門(mén)真空室尺寸:500x500x600mm極限真空度:≤6.67E-5Pa沉積源:4個(gè)11c...
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500 參考價(jià)：面議
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500真空室結(jié)構(gòu):方形前開(kāi)門(mén)真空室尺寸:p500x500x500mm極限真空度:≤3.0E-5Pa沉積源:永磁靶4套，2英寸...
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450 參考價(jià)：面議
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開(kāi)門(mén)真空室尺寸:φ450x400mm極限真空度:≤6.6E-6Pa沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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