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6當(dāng)前位置：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司>>技術(shù)文章
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2023
04-13用于創(chuàng)新PIC封裝的晶圓級(jí)納米壓印技術(shù)
01引言數(shù)據(jù)中心、電信網(wǎng)絡(luò)、傳感器和用于人工智能高級(jí)計(jì)算中的新興應(yīng)用，對(duì)于低功耗和低延遲的高速數(shù)據(jù)傳輸?shù)男枨蟪尸F(xiàn)出指數(shù)級(jí)增長。我們比以往任何時(shí)候都更加依賴這些應(yīng)用來確保這個(gè)世界更安全、更高效。在所有這...2023
04-12EVG推出全新突破速度和精度極限的掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
相較上一代平臺(tái)，全新自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（IQAlignerNT）產(chǎn)出率和對(duì)準(zhǔn)精度提升兩倍，為EVG光刻解決方案帶來了全新應(yīng)用微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)以及半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合和光刻設(shè)備LINGXIA...2023
04-12光刻創(chuàng)新技術(shù)：EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術(shù)
1.介紹對(duì)電子設(shè)備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎(chǔ)架構(gòu)從傳統(tǒng)的基于掩模的光刻技術(shù)轉(zhuǎn)變?yōu)橛糜诟呒?jí)封裝和異構(gòu)集成的數(shù)字光刻技術(shù)。片上系統(tǒng)正在從單片解決方案轉(zhuǎn)向封裝，小芯片和功能塊中的模塊化系統(tǒng)。因此，對(duì)...2023
04-122023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（結(jié)果與討論）
３結(jié)果與討論３.１顯影時(shí)間影響經(jīng)過無掩模光刻機(jī)曝光后，目標(biāo)圖案已轉(zhuǎn)移至ＩＴＯ玻璃上。將ＩＴＯ玻璃放置于加熱板上進(jìn)行加熱，烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分，使光刻膠與ＩＴＯ玻璃結(jié)合更加緊密，此時(shí)，經(jīng)過曝光的...2023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（引言+實(shí)驗(yàn)）
１引言ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍｔｉｎｏｘｉｄｅ）又稱氧化銦錫，是一種銦錫金屬氧化物，因其具有光學(xué)透明性［１］、高導(dǎo)電性［２］、易加工性［３］及柔性潛力［４］等優(yōu)點(diǎn)，目前在光電檢測(cè)、生物芯片及微納器件等領(lǐng)域...2023
04-102023
03-14ThetaMetrisis膜厚儀用于電池隔膜厚度測(cè)量
介紹：鋰電池由正極、負(fù)極和電解液組成。隔膜是形成微孔層的高分子膜，放置在電池的正負(fù)極之間，使正負(fù)極保持分開以防短路，同時(shí)確保離子電荷載體的傳輸。隔膜的結(jié)構(gòu)和特性會(huì)顯著影響電池的性能，例如能量、功率密度...2023
03-08可以讓產(chǎn)品變性的機(jī)器，等離子清洗機(jī)？
等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是：（1）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了...2023
02-20EVG突破用于半導(dǎo)體高/級(jí)封裝的掩模對(duì)準(zhǔn)光刻技術(shù)中的速度和精度障礙
面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對(duì)大批量先進(jìn)封裝應(yīng)用的新的，先進(jìn)的自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。新型I...2023
02-202023
02-20【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對(duì)準(zhǔn)和測(cè)試精度
在微電子、納米、半導(dǎo)體領(lǐng)域?yàn)榫雍虾凸饪碳夹g(shù)提供設(shè)備技術(shù)方案的供應(yīng)商EVG近期推出了NT系列光刻機(jī)和對(duì)準(zhǔn)測(cè)試機(jī)，這是一個(gè)全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗(yàn)證過的新型光刻曝光機(jī)以及晶圓對(duì)晶圓(W2W)接合曝光和...2023
02-202023
06-08光學(xué)光刻技術(shù)（Optical lithography）
1.簡介光學(xué)光刻（Opticallithography），也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對(duì)掩模和樣品進(jìn)行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備（接近式光刻機(jī)）2.1...2023
02-162023
02-14光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測(cè)量
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，...2023
01-112023
01-102023
01-102022
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