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　　行業(yè)挑戰(zhàn)

　　超純水（UPW）生產(chǎn)的一致性對微電子制造至關(guān)重要，并且有助于保護產(chǎn)品質(zhì)量。除基本的超純水監(jiān)測以外，在如何對偏離趨勢的結(jié)果迅速做出反應(yīng)，并進行有效的故障排查和過程控制方面，微電子工廠也面臨著挑戰(zhàn)。其他關(guān)注領(lǐng)域包括，確保化學(xué)品純度以改善工藝性能和批量生產(chǎn)，以及監(jiān)測廢水和回用水。

　　微電子制造商在生產(chǎn)中會遇到各種有機污染物，并經(jīng)歷各種挑戰(zhàn)，包括：

　　●給水和高純工藝化學(xué)品中的低ppm級濃度

　　●最終拋光前的ppt級濃度

　　●回用水和廢水應(yīng)用中復(fù)雜的樣品基質(zhì)

　　●監(jiān)測硅膠等有害顆粒物的關(guān)鍵需求

　　解決方案

　　憑借Sievers總有機碳（TOC）分析儀和超純水（UPW）硼分析儀，威立雅能夠提供適合微電子制造工藝每一個步驟的分析解決方案。鑒于其寬廣的分析范圍和應(yīng)用的多功能性，Sievers TOC分析儀可用于超純水、工藝化學(xué)品純度、回用水和廢水處理監(jiān)測。由于在二氧化硅之前，硼先從樹脂床中泄漏出來，因此Sievers超純水硼分析儀可通過檢測硼濃度升高，實現(xiàn)二氧化硅的控制和樹脂床的管理。

　　全面、靈活的監(jiān)測選擇

　　有兩種常用于監(jiān)測低濃度微電子應(yīng)用中TOC的檢測技術(shù)：膜電導(dǎo)率（Membrane Conductometric）和直接電導(dǎo)率（Direct Conductometric）。Sievers的產(chǎn)品涵蓋了這兩種技術(shù)，此外還提供適合于更復(fù)雜基質(zhì)（如工藝化學(xué)品和廢水）的濕化學(xué)氧化法。

　　我們可提供以下儀器和產(chǎn)品：

　　●Sievers M9e、M500e和500 RLe TOC分析儀采用Sievers膜電導(dǎo)率檢測技術(shù)

　　 ◆Sievers膜電導(dǎo)率技術(shù)消除了大多數(shù)超純水系統(tǒng)中所存在的鹵代有機物和胺引起的假陽性和假陰性

　　●Sievers CheckPointe TOC傳感器采用直接電導(dǎo)率檢測技術(shù)

　　 ◆提供了一個適合于非關(guān)鍵超純水監(jiān)測點的經(jīng)濟型選擇

　　 ◆用于快速診斷和故障排查的工具

　　●Sievers InnovOx TOC分析儀采用非色散紅外（NDIR）檢測和超臨界水氧化（SCWO）技術(shù)

　　 ◆可以準(zhǔn)確、可靠地檢測濃酸、堿和純化學(xué)品中的痕量有機物

　　 ◆可以監(jiān)測廢水和高達30%的鹵水

　　應(yīng)用需求及Sievers的解決方案

　　給水、超純水和回用水系統(tǒng)監(jiān)測

　　Sievers M9e在線和便攜式TOC分析儀專為最復(fù)雜的水系統(tǒng)和應(yīng)用而設(shè)計。該分析儀的分析范圍為0.03 ppb至50 ppm，使用膜電導(dǎo)率技術(shù)，精確檢測系統(tǒng)給水、反滲透產(chǎn)水和最終產(chǎn)水中的TOC濃度。使用可選配的Turbo模式，僅需4秒分析時間，SieversM9e分析儀是適合于回用水檢測的理想故障排查工具。

　　Sievers M9e可實現(xiàn)：

　　●儀器與儀器之間的匹配

　　●在低TOC超純水應(yīng)用中低濃度檢測的穩(wěn)定性

　　●自動化的操作，如校準(zhǔn)、驗證和數(shù)據(jù)分析

　　●12個月校準(zhǔn)穩(wěn)定期

　　●先進的自動調(diào)零功能，適合超純級的準(zhǔn)確度和精度

　　化學(xué)品和廢水純度

　　為了實現(xiàn)工藝性能和優(yōu)化批量生產(chǎn)，在過氧化氫、氫氧化鈉、氫氧化銨、硫酸和其他蝕刻/電鍍化學(xué)品等工藝化學(xué)品中，控制TOC至關(guān)重要。Sievers InnovOx TOC分析儀非常適用于此類監(jiān)測以及廢水和回用水中的有機物監(jiān)測。

　　Sievers InnovOx有助于：

　　●工廠做出更明智的合規(guī)和處理決策

　　●可提供實時直接的碳檢測，與間接的需氧量檢測形成鮮明對比

　　●使用超臨界水氧化（SCWO）技術(shù)處理復(fù)雜的基質(zhì)

Sievers分析儀及其在微電子制造中的應(yīng)用匯總

　　參考文獻

　　1.Godec,Richard D.,“Monitoring and Controlling UPW Organic Nitrogen Contamination to Improve Immersion Photolithography Process Control.”Presented at ULTRAPURE WATER Confer-ence,Portland,OR,November 2011,Tall Oaks Publishing,Inc.

　　2.Godec,Richard D.,”The Performance Comparison of Ultrapure Water TOC Analyzers using an Automated Standard Addition Apparatus.”Published and copyrighted by Semiconductor Pure Water and Chemical Conference,2000 Proceedings.

　　3.Dunn R.,“New Analytical Technique Promotes Elimination of Silica in Feed,Steam and Condensate Systems.”

• SieversM500e在線TOC分析儀

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