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Combinatorial Pulsed Lase 組合型脈沖激光沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Combinatorial Pulsed Lase
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/4/23 14:29:40
- 訪問(wèn)次數(shù) 798
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,綜合 |
產(chǎn)品信息
沉積過(guò)程中生產(chǎn)多種不同材料成分的能力大大加快了達(dá)到具有理想材料性能的材料成分的速度。連續(xù)組成擴(kuò)展功能PLD (CCS -PLD)是基于自然發(fā)生在PLD中的沉積速率，這是Cosn (θ) (5 ≤ n ≤ 11)的結(jié)果。PLD- CCS得益于使用Neocera軟件進(jìn)行多層沉積的益處，以及PLD過(guò)程固有的正向特性，可以改變二元/三元/四元相的組成。PLD-CCS在而不是在離散元件中而不是模擬方案中改變材料，從而消除了對(duì)掩模的需要。連續(xù)組成擴(kuò)展功能（CCS）可在單次沉積中沉積很多不同組分的材料，大大縮短了沉積不同組分材料合成新材料的時(shí)間， 實(shí)現(xiàn)合成材料組分的優(yōu)化。PLD-CCS 系統(tǒng)能以連續(xù)的方式改變材料，沒(méi)有必要使用掩模。可以在每一次循環(huán)中，以小于 一個(gè)單分子層的速率，快速連續(xù)沉積每一種組份，其結(jié)果是類似于共沉積法。該法無(wú)需在沉積后進(jìn)行退火促進(jìn)內(nèi)部擴(kuò)散或 結(jié)晶，對(duì)于生長(zhǎng)溫度是關(guān)鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是非常有幫助的。Neocera 公司 PLD 系統(tǒng)可在同一個(gè)系統(tǒng)上實(shí)現(xiàn)帶有連續(xù)組成擴(kuò)展功能（CCS-PLD）和標(biāo)準(zhǔn)型 PLD 功能。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1、獨(dú)立交鑰匙PLD系統(tǒng)
2、PLD-CCS 三元連續(xù)組分?jǐn)U散
3、無(wú)退火和掩模
4、在“真正的”沉積條件下（比如800℃，500mTorr）薄膜成長(zhǎng)
5、Wafer尺寸：標(biāo)準(zhǔn)型直徑2”（4” 和6”需客戶定制）
6、外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積
7、高溫下氧化膜沉積的氧兼容性
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