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Large Area Pulsed 大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 北京正通遠恒科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Large Area Pulsed
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/5/9 9:52:06
- 訪問次數(shù) 574
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,航空航天,綜合 |
產(chǎn)品簡介
Neocera大尺寸PLD系統(tǒng)用于在各種襯底上沉積各種高質(zhì)量的薄膜，晶圓（wafer）直徑可達8 "(200毫米)?；D(zhuǎn)結(jié)合激光掃描提供整個晶圓區(qū)域的厚度均勻性。激光束掃描附件采用了獨\特的Neocera設(shè)計，當激光束掃描時，可以在目標上產(chǎn)生固定的激光通量(J/cm2)。當激光束通過目標表面掃描時，激光束掃描使用獨\特的掃描程序。激光位置在目標上的停留時間遵循逆速度程序，促進了薄膜厚度的良好控制。用戶可以*控制掃描參數(shù)的必要改變，厚度輪廓取決于沉積壓力。
產(chǎn)品特點
•全自動大尺寸PLD系統(tǒng)
•晶圓尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直徑
•外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積
•高溫下氧化膜沉積的氧相容性
•自動激光掃描厚度均勻性
技術(shù)參數(shù)
1.襯底尺寸:(直徑)4 " (100mm)，6 " (150mm)和8 " (200mn)
2.PLD腔室尺寸:18英寸直徑球體或圓柱體。
3.襯底加熱:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers)，700℃(8" wafers)
4.目標旋轉(zhuǎn): 直徑4 × 2"
5.厚度均勻性: ±5%或更好。
6.工業(yè)氣體: O2, N2, Ar， (MFC控制)
7.Loadlocks: 包括
8.自動化: Windows 7, LabView 2013
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