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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS 帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀

CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS 帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀

參考價 250000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/3 15:52:13
  • 訪問次數(shù) 56

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結(jié)設備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應用領域 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,可調(diào)角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 500W

本設備為帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。

設備配有三支磁控靶,兩套直流電源,可用于鍍多層導電金屬膜。同時設備具有主腔室和過渡艙兩部分,過渡艙配有磁力推桿,兩個艙室之間裝有真空閘板閥;用戶可以在主腔室進行濺射工作的同時,在過渡艙裝填樣品,并進行真空預抽,待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺。這樣的設計能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù),不僅能有效節(jié)省時間,更能保證更好的本地真空,有效提高鍍膜質(zhì)量.

 帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS

供電電源

VAC 110, 60Hz

樣品臺

位置

下部,帶擋板

直徑尺寸

φ150mm

可調(diào)轉(zhuǎn)速

0-20rpm 可調(diào)

加熱溫度

RT~500oC

真空腔體

腔體尺寸

φ325xH510mm

腔體材料

304 不銹鋼

內(nèi)壁處理

電解拋光

密封方式

氟橡膠密封

觀察窗口

φ100mm(帶擋板)

磁控靶槍 

數(shù)量

3

擺頭角度

可調(diào)角度 -45~45 度

濺射方向

向下濺射

靶材平面

圓形平面靶

靶材直徑

2英寸

靶材厚度

*厚3mm

直流電源

數(shù)量

2

電源功率

0~500W

輸出電壓

0600V

*大輸出電流

1A

啟動時間

1~10S

射頻電源

數(shù)量

1

電源功率

0~500W

射頻頻率

13.56MHz

匹配方式

自動匹配

反射功率

≦100W

功率穩(wěn)定性

±0.1%

膜厚監(jiān)測儀

通道數(shù)

單通道

測量精度

0.1 ?

測量速度

100ms-1s/次,可設置測量范圍:500000?(鋁)

標準傳感器晶體

6MHz

適用晶片尺寸

Φ14mm

真空系統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵,抽速1.1L/s

渦輪分子泵

抽速600L/s

額定轉(zhuǎn)速:27000rpm

啟動時間:≦5min

冷卻方式:水冷

真空度

5x10-4Pa

真空測量

復合真空計,測量范圍10-5Pa ~ 105 Pa

過渡倉

腔體尺寸要適用于*大4英寸的晶圓

配備分子泵組:

前級泵:VRD-4,抽速1.1L/s

分子泵:日本TG60F,抽速60L/s

水冷機

冷卻水流速

10L/min

整機功率

0.1KW

冷卻功率

50W/℃

水箱容量

9L

氣體控制

1路質(zhì)量流量計:Ar氣,范圍0-200sccm

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)





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