PVD高精模具鍍膜設備

· 設備簡介：

    PVD高精模具鍍膜設備采用純離子鍍膜源核心技術，設備腔體結構由裝/卸載腔+工藝腔組合而成，高效的電磁掃描系統(tǒng)和過濾系統(tǒng)能有效過濾掉大顆粒帶電離子，制備出致密、均勻的納米薄膜，在硬度、摩擦系數(shù)、耐沖擊、耐腐蝕性能方面具有優(yōu)勢。適合光學鏡頭模具及精密產(chǎn)品的鍍膜。

· 產(chǎn)品特點：

1、腔體結構由一個裝載腔室和一個真空鍍膜工藝腔室組合而成；

2、裝載腔室裝載的同時鍍膜工藝腔室同步進行抽真空，極大縮短了鍍膜前處理時間，提高工作效率；

3、裝載腔室和鍍膜工藝腔室之間我們設計采用插板閥隔開，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體；

4、傳動采用磁導向，保障傳動的穩(wěn)定性。采用變頻調速電機驅動，運行速度可調節(jié)。

· 技術優(yōu)勢：

1、PIC配有高效的電磁掃描系統(tǒng)和過濾系統(tǒng)，離子束能量和方向可調，可將等離子體中的雜質顆粒、宏觀粒子、大型離子團等過濾干凈，經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率達到1，并且可以過濾掉大顆粒，因此制出的納米薄膜非常致密且平整光滑，抗腐蝕性能好，與工件的結合力很強，在均勻性、致密性、結合度、硬度、摩擦系數(shù)、改變物質表面結構和消除薄膜顆粒等方面取得里程碑式的突破；

2、純離子鍍膜技術是低溫工藝，鍍膜過程可以控制在80?C以下。鍍膜過程中既不需要高溫也不會產(chǎn)生高溫，因此可以應用于塑料、橡膠等產(chǎn)品；

3、作為純離子鍍膜重要應用之一的類金剛石DLC鍍膜，膜層可以達到75%以上的（金剛石鍵）SP3鍵，其物理化學性質和金剛石極其類似，所以薄膜具有硬度（>75GPa）,極低的摩擦系數(shù)（<0.1），耐腐蝕性、光學透明度等一系列優(yōu)異特征。可將鍍膜件（基體）壽命延長7-10倍。

· 鍍膜設備參數(shù)（可按客戶需求定制）：

· 應用領域：

>精密光學：光學模壓模具；

>高精機械加工：精密機械零部件；

>科研單位(研究所大學實驗室)；

>溫度敏感的基材等。

· 服務案例：

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數(shù)據(jù)