磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1.真空系統(tǒng)

　　真空腔體由標(biāo)準(zhǔn)的304不銹鋼焊接而成，內(nèi)部形狀為長方體，其尺寸為600mm*600mm*700mm，電解拋光處理，減少內(nèi)部材料放氣現(xiàn)象。真空腔體上安裝有電極，基片系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，氣路系統(tǒng)等部件；真空腔體配備兩個(gè)可以打開的門，前門為移門，通過與直線導(dǎo)軌，滑塊等裝置連接，可使前門左右開啟與關(guān)閉，后期也可以連接手套箱，在手套箱內(nèi)部操作前門開關(guān)，確保整個(gè)工作環(huán)境處于氮?dú)饣蚨栊詺怏w氛圍中；后門旋轉(zhuǎn)門，通過旋轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)后門的開關(guān)，開啟后腔體內(nèi)部暴露在空氣中，主要的目的為維護(hù)檢修，并配一個(gè)長方形觀察窗，配合腔體外部照明燈，方便觀察腔體內(nèi)部狀況。腔體側(cè)面裝有抽氣主管道，分子泵，插板閥，真空計(jì)，充氣閥，角閥等真空配件，在腔體潔凈，無污染的情況下，極限真空5*10-5pa，四十分鐘可達(dá)到大氣至5*10-4pa，系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，真空度≤5Pa。該系統(tǒng)可以在不停分子泵的前提下，對腔體內(nèi)部材料添加、更換，也可以取放基片。

　　2.樣品系統(tǒng)

　　該設(shè)備的樣品架采用嵌入式結(jié)構(gòu)，可搭載一片210mm*210mm基片，向下兼容，也可以搭載多片定制數(shù)量小基片；基片帶冷卻系統(tǒng)；掩模版到基片距離小于0.1mm。

　　樣品架通過旋轉(zhuǎn)軸，磁流體，聯(lián)軸器，電機(jī)等裝置連接，從而可實(shí)現(xiàn)0~30轉(zhuǎn)/分鐘。配備1套基片擋板系統(tǒng)，可以根據(jù)實(shí)際工作需求開啟與關(guān)閉。

　　3.沉積系統(tǒng)

　　該系統(tǒng)配備4組蒸發(fā)源，可對金屬，有機(jī)，無機(jī)物等材料進(jìn)行蒸鍍，每組蒸發(fā)源均配備冷卻系統(tǒng)，4組蒸發(fā)源按照R-D-matin-ME系列舟蒸發(fā)源設(shè)計(jì)；源和源之間有隔板，防止交叉污染及隔絕一定溫度輻射。

　　各個(gè)源均可通過繼電器切換與一臺可編程直流電源連接，電源設(shè)定為恒流模式，調(diào)節(jié)電流的大小來對蒸發(fā)源上的負(fù)載進(jìn)行加熱，（TDKGEN8-1801.5KW可編程直流電源，升溫溫度1500℃，精度0.1A）從而使得負(fù)載上的材料達(dá)到一定溫度后發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象。通過膜厚儀上的數(shù)據(jù)，可實(shí)時(shí)反饋出材料蒸發(fā)的速率（采用1臺InficonSQC-3102通道膜厚儀，厚度和速率分辨率±0.015?，速率顯示0.01?/s,可同時(shí)顯示2個(gè)膜厚探頭的讀數(shù)），沉積厚度等信息。也可以通過編輯膜厚儀程序，到達(dá)自動蒸鍍的效果。

　　4.控制系統(tǒng)

　　磁控濺射鍍膜采用工控機(jī)控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)自動一鍵式抽真空，也可以在手動模式下，控制機(jī)械泵、角閥、插板閥、分子泵的開啟和停止，軟件中含有各個(gè)電氣設(shè)備的軟件互鎖和狀態(tài)反饋，確保不會因誤操作導(dǎo)致設(shè)備的損壞，還可以在手動模式下，控制基片旋轉(zhuǎn)，擋板開關(guān)，電極的切換等一系列操作。速率控制模式可以設(shè)定蒸發(fā)材料的速率值，與膜厚儀中探頭檢測的實(shí)際值比較，通過速率控制PID模塊調(diào)節(jié)加熱電源的輸出；通過膜厚儀與工控機(jī)串口通訊，將蒸發(fā)速率、蒸鍍膜厚和輸出功率一同在軟件中實(shí)時(shí)顯示，方便操作人員監(jiān)測實(shí)驗(yàn)過程；登陸軟件需要用戶名和密碼，不同的用戶名對應(yīng)不同的操作權(quán)限，確保操作人員不會誤操作到設(shè)備的參數(shù)設(shè)置