IC制造潔凈標準
   集成電路（IC）制造潔凈廠房是滿足半導(dǎo)體制造工藝需求的潔凈室，該潔凈室對環(huán)境潔凈度、溫濕度、振動、ESD（靜電控制）、AMC（氣態(tài)分子級污染物）控制等都有一定的要求。相對于其他工業(yè)潔凈室，集成電路制造潔凈室有面積大、潔凈等級高、溫濕度控制精度高等特點。

FFU系統(tǒng)已成主流方案

　　根據(jù)潔凈室空氣循環(huán)特點可以將潔凈室分為三種類型：循環(huán)空調(diào)機配合送風口系統(tǒng)、循環(huán)風機配合濕式密封系統(tǒng)和FFU（風機過濾單元）循環(huán)系統(tǒng)。

　　*種形式在小規(guī)模低等級要求的潔凈室設(shè)計中被廣泛應(yīng)用，對于大面積高等級的潔凈室則存在運行成本過高、占用空間過大等缺點。

　　第二種形式的設(shè)計可以滿足集成電路制造潔凈室大面積高等級的要求，但運行成本較高，并且潔凈室風速、風量調(diào)節(jié)困難，系統(tǒng)升級改造困難，因此操作靈活性很低。

　　第三種的FFU循環(huán)系統(tǒng)不僅節(jié)省運行空間、潔凈度安全性高、運行成本低，而且操作靈活性很高，可以在不影響生產(chǎn)的情況下隨時進行系統(tǒng)升級和調(diào)整，這些都能很好地滿足半導(dǎo)體制造的需求，因此在半導(dǎo)體制造業(yè)FFU循環(huán)系統(tǒng)逐漸成為zui主要的潔凈設(shè)計方案。

　　FFU循環(huán)系統(tǒng)的特點是：整個潔凈室由靜壓層、工藝層、工藝輔助層和回風通道組成，由FFU提供循環(huán)空氣的動力，將新風、循環(huán)風混合后通過超過濾器送入工藝層和工藝輔助層，靜壓層相對于工藝層為負壓。此外，還有生產(chǎn)輔助區(qū)為集成電路制造廠務(wù)設(shè)備區(qū)域，包括電力供應(yīng)、氣體和化學(xué)品供應(yīng)、超純水供應(yīng)等。

AMC控制標準更加嚴格

　　集成電路制造對潔凈室環(huán)境的控制有較為嚴格的要求。不同的工藝制程對潔凈度的要求也各不相同，例如光刻要求在1級的微環(huán)境下，而化學(xué)機械研磨則只要求1000級的環(huán)境即可。

　　采用FFU系統(tǒng)的潔凈室一般通過FFU的分布率來決定該潔凈室的潔凈等級，潔凈室的正壓通過新風量來控制，潔凈室溫濕度的控制是通過循環(huán)空氣冷卻系統(tǒng)（RCU）和新風空調(diào)系統(tǒng)（MAU）完成。

　　ESD也是半導(dǎo)體制造環(huán)境控制的重要內(nèi)容，靜電釋放可能對產(chǎn)品和生產(chǎn)設(shè)備造成損害，還可能引起硅片表面塵粒吸附，影響產(chǎn)品的良率。靜電消除要在潔凈室設(shè)計上進行總體考慮，除了設(shè)備接地（包括潔凈墻板和高架地板，辦公設(shè)備等）外，還要采用防靜電墻板、高架地板，人員要求穿著防靜電的潔凈服、潔凈鞋。對存在ESD危害風險的設(shè)備和生產(chǎn)區(qū)域應(yīng)安裝靜電消除器。

　　AMC是危害生產(chǎn)工藝并導(dǎo)致成品率降低的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì)。AMC會在半導(dǎo)體制造的柵底氧化、薄膜、多晶硅和硅化物形成、接觸成型、光刻等多個關(guān)鍵工藝上造成各種危害，影響產(chǎn)品質(zhì)量，是半導(dǎo)體制造面臨的越來越嚴峻的問題，也是生產(chǎn)環(huán)境控制中亟待解決的問題?？梢灶A(yù)見，隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展，對AMC的控制標準將越來越嚴格，而單一的采用化學(xué)過濾器去除AMC的控制方法有許多條件限制，并且會大幅提高運行成本。因此應(yīng)該從設(shè)計選址、設(shè)備選型、改進工藝流程等多方面加以考慮。

　　另外，集成電路制造潔凈廠房對噪聲、微振、照度等都有相關(guān)的規(guī)定和要求，尤其是振動的控制，在潔凈室的建筑結(jié)構(gòu)設(shè)計上就要有所要求。關(guān)鍵設(shè)備必須安裝單獨的防振基礎(chǔ)。

潔凈系統(tǒng)設(shè)計突出節(jié)能理念

　　好的潔凈室設(shè)計不僅能節(jié)省能源、降低運行成本、降低人力投入，而且可以給生產(chǎn)提供安全可靠的保證。在3種潔凈系統(tǒng)中，FFU循環(huán)系統(tǒng)運行成本zui低，潔凈度安全性zui高，因此集成電路潔凈廠房多采用FFU循環(huán)系統(tǒng)。而潔凈度要求越高，溫濕度控制精度越高則潔凈室投資和運行成本越高，因此在大環(huán)境潔凈度或溫濕度要求相對較低的情況下，將一些關(guān)鍵的工藝設(shè)備布置在較高潔凈度或溫濕度控制區(qū)域內(nèi)（比如潔凈隧道和微環(huán)境）是集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計趨勢。

　　MAU是潔凈系統(tǒng)運行成本zui高的部分，因此在設(shè)計上可以考慮通過熱回收進行節(jié)能。夏季可以利用新風空調(diào)的預(yù)熱盤管將熱回收到再熱盤管，節(jié)省熱水用量；采用噴淋室加濕設(shè)計，可以減少熱損失，且可以穩(wěn)定而地去除新風中的AMC，延長化學(xué)過濾器壽命。在運行上要有效控制工藝排風量以降低新風用量，降低MAU送風溫度，減少加熱量和潔凈室內(nèi)冷負荷。

　　集成電路制造是高能耗的產(chǎn)業(yè)，而潔凈空調(diào)系統(tǒng)的能耗則占其中的30%以上，因此節(jié)能安全的潔凈室設(shè)計和各種熱能回收設(shè)計將是未來的發(fā)展方向。　　隨著集成電路制造技術(shù)的不斷升級，主流大廠已經(jīng)進入了納米時代，集成電路制造潔凈廠房的設(shè)計建造和節(jié)能創(chuàng)新也需要不斷提升，為*制程產(chǎn)品生產(chǎn)提供保障。