手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
直流磁控濺射儀在科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用中發(fā)揮著重要的作用
直流磁控濺射儀是一種基于磁場與直流電場協(xié)同作用實(shí)現(xiàn)金屬薄膜快速沉積的表面鍍膜設(shè)備,直流磁控濺射儀主要用于在真空室內(nèi)通過直流電源施加電壓，使氬氣電離,產(chǎn)生的氬離子轟擊靶材 ，使靶材表面的原子或分子沉積在基片上形成薄膜。
直流濺射磁控儀的優(yōu)點(diǎn)包括基片升溫低、沉積速率快、膜層損傷小等。只要能把材料制成靶材，都可以使用直流濺射磁控儀進(jìn)行濺射鍍膜。同時，濺射所制備的薄膜在膜基結(jié)合力、致密性、純度和成膜均勻性等方面都有良好的表現(xiàn)。此外，它的制備工藝具有很好的重復(fù)性和厚度均勻性，適用于大面積制備薄膜，且涂層的厚度可以通過膜厚儀進(jìn)行準(zhǔn)確控制。相較于傳統(tǒng)濺射，效率明顯提升。磁場約束電子運(yùn)動軌跡，延長其路徑，增加電離幾率，形成高密度等離子體，提升沉積效率。冷濺射技術(shù)適用于溫度敏感樣品。電子在磁場約束下，大部分能量被消耗在與氬原子的碰撞和電離過程中，減少了電子直接轟擊基片的能量，從而有效降低基片溫度。
直流磁控濺射儀的工作原理如下：
真空室內(nèi)的氣體電離：在真空室內(nèi)充入適量的氬氣，通過直流電源在陰極(靶材)和陽極(鍍膜室壁)之間施加電壓，使氬氣電離產(chǎn)生氬離子(Ar+)和電子。
轟擊靶材：氬離子在電場作用下轟擊靶材表面，使靶材表面的原子或分子被濺射出來。
沉積薄膜：濺射出的原子或分子沉積在基片上，形成所需的薄膜。
二次電子的約束：產(chǎn)生的二次電子在電場和磁場的共同作用下，做螺旋運(yùn)動，延長了在等離子體中的停留時間，進(jìn)一步電離出大量的氬離子，提高沉積速率。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心