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光學(xué)平臺在工程中的應(yīng)用與關(guān)鍵技術(shù)解析
當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)受到外界振源的干擾時，會產(chǎn)生強迫振動。對于精密的光學(xué)儀器和設(shè)備而言，這種振動可能導(dǎo)致部件發(fā)生相對位移，進而引發(fā)光路偏轉(zhuǎn)和圖像信號模糊等問題，嚴(yán)重影響設(shè)備的正常使用。因此，采取有效的措施來抑制過大的振動位移顯得尤為重要。在工程實踐中，隔振光學(xué)平臺被廣泛采用，成為了一種重要的抑制振動措施。
光學(xué)平臺的性能指標(biāo)主要包括隔振帶寬和傳遞率
隔振帶寬越大，表明光學(xué)平臺的隔振能力越強，能夠覆蓋更廣的頻率范圍。而傳遞率則反映了振動能量的傳遞效率，數(shù)值越小意味著振動能量被有效隔離。
光學(xué)平臺在結(jié)構(gòu)上通常分為“臺面”和“隔振器”兩部分
臺面作為設(shè)備直接固定的基礎(chǔ)，其固有頻率越高，越有利于有效隔振。而隔振器則連接著臺面與地基，其結(jié)構(gòu)優(yōu)化對于降低傳遞率至關(guān)重要。
在實際應(yīng)用中，光學(xué)平臺的隔振性能受到多種因素的影響。為了滿足不同的使用需求，工程師們需要綜合考慮臺面和隔振器的設(shè)計，以及整體系統(tǒng)的固有頻率和阻尼特性等因素，來優(yōu)化光學(xué)平臺的性能。
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