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步進(jìn)曝光機(jī)是一種用于光刻（半導(dǎo)體和液晶制造工藝）的投射曝光設(shè)備。
隨著IC電路圖案的小型化，制作全尺寸光掩模圖案變得困難。這是指在對(duì)大于實(shí)際尺寸的掩模圖案進(jìn)行縮小投影曝光時(shí)進(jìn)行分步重復(fù)曝光的曝光設(shè)備
步進(jìn)機(jī)是一種曝光設(shè)備，通過(guò)執(zhí)行步進(jìn)和重復(fù)來(lái)曝光整個(gè)待曝光區(qū)域。
步進(jìn)機(jī)的使用
步進(jìn)機(jī)用于半導(dǎo)體和液晶的制造，特別是用于光刻過(guò)程中使用掩模的曝光處理。
步進(jìn)法包括步進(jìn)重復(fù)法和步進(jìn)重復(fù)法，其中，由于一次可以轉(zhuǎn)移的面積較小，因此在步進(jìn)時(shí)將晶圓順序曝光；以及步進(jìn)重復(fù)法，其中稱(chēng)為掃描儀的標(biāo)線和存在一種使用步進(jìn)機(jī)進(jìn)行曝光的類(lèi)型，該類(lèi)型與步進(jìn)機(jī)不同，并且可以將其視為掃描儀。
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