EDX（Energy Dispersive Spectrometry）即能量色散 X 射線熒光光譜分析儀采用的 X 射線熒光光譜分析原理。X 射線熒光分析原理：當(dāng)樣品中元素的原子收到高能 X 射線照射時(shí)，即發(fā)射出具有一定波長(zhǎng)的特征 X 射譜線。特征譜線的波長(zhǎng)與元素的原子序數(shù)（Z）有關(guān)，而與激發(fā) X 射線的能量無(wú)關(guān)。所以測(cè)定譜線的波長(zhǎng)，就可知道試樣中含有什么元素（即定性分析）；測(cè)量譜線的強(qiáng)度，就可知該元素的具體含量（即定量分析）。儀器工作原理：儀器高壓電源給光管提供管壓和管流，光管激發(fā)出連續(xù)的 X射線熒光光譜線（即原級(jí) X 射線），原級(jí) X 射線照射到樣品上，樣品產(chǎn)生具有樣品特征的 X 熒光譜線，經(jīng)過(guò)探測(cè)器后變成電壓信號(hào)，信號(hào)經(jīng)過(guò)放大和數(shù)據(jù)采集后傳送給計(jì)算機(jī)，經(jīng)軟件處理后終獲樣品的測(cè)量結(jié)果。

江蘇天瑞儀器股份有限公司是一家從事分析測(cè)試儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售的guo ji化高科技企業(yè)，產(chǎn)品主要包括光譜、色譜、質(zhì)譜等。針對(duì) EDX 2000A 在鍍層等廣泛應(yīng)用，根據(jù)優(yōu)化產(chǎn)品性能和提高需求，特別設(shè)計(jì)該款 EDX 2000A。該款儀器聚焦效果好，自動(dòng)化的 X 軸 Y 軸 Z軸的聯(lián)動(dòng)裝置，實(shí)現(xiàn)對(duì)平面、凹凸、臺(tái)階、弧面等各種形態(tài)的樣品進(jìn)行快速對(duì)焦，分析。

產(chǎn)品名稱(chēng)：X射線鍍層測(cè)厚儀

產(chǎn)品型號(hào)：EDX2000A

（1）外形尺寸：485（W）×588（D）×505（H）mm

樣品腔尺寸：430（W）×400（D）×140（H）mm

（2）重量 60kg

（3）X 射線源：

X 射線管：W 靶材

X 射線管電壓： 5——50KV，可調(diào)

X 射線管電流: 50uA——1mA，可調(diào)

X 射線管制冷： 密閉型風(fēng)冷

（4）準(zhǔn)直系統(tǒng)：標(biāo)配￠0.3mm(可根據(jù)要求選配)

（5）濾光片：Al 濾光片(可根據(jù)要求選配)

（6）X 射線檢測(cè)： FSDD 探測(cè)器

（7）樣品觀測(cè)配置

樣品照明： LED 燈，上方垂直環(huán)繞照射

觀察：彩色 CCD 變焦工業(yè)攝像頭

倍率：15-25 倍

視野：6 X 4.8mm

變焦：0-40mm

（8）Z 軸調(diào)節(jié)：圖像識(shí)別功能7高度激光對(duì)焦

（9）電動(dòng) XY 高jing度移動(dòng)平臺(tái)

樣品臺(tái)尺寸： 320（W）× 265（D）mm

移動(dòng)范圍：100mm(X) × 100mm(Y)

分辨率：5um

重復(fù)定位jing度： ＜10um

步進(jìn)電機(jī)步距角： 1.8°

載重量：3 kg（無(wú)傾斜）

（10）Z 軸升降平臺(tái)：

升降幅度范圍：0—140mm

（11）an quan bao hu 操作人員在未關(guān)高壓的情況下打開(kāi)屏蔽罩儀器會(huì)自動(dòng)斷高壓。

（12）數(shù)據(jù)采集4096 道細(xì)分?jǐn)?shù)據(jù)采集

（13）X 射線管工作情況監(jiān)測(cè)系統(tǒng)軟件畫(huà)面顯示當(dāng)前的管壓，管流，元素峰通道，記數(shù)率等。

  (14) 電源：電源輸入：AC220±10%，5A，50/60HZ

特別性能

? 上照式：各種形狀樣品都可測(cè)試

? 高分辨率探頭：提高分析的性

?  an quan 性：新一代光管良好的屏蔽作用，X 射線的輻射基本為 0；儀器上蓋的測(cè)試自鎖和高壓電源緊急鎖功能

? 測(cè)試組件可升降，激光測(cè)距系統(tǒng)，滿足不同高度樣品的非接觸式測(cè)試

? gao jing 度移動(dòng)平臺(tái)，支持智能定位測(cè)試，多點(diǎn)測(cè)試和網(wǎng)格測(cè)試模式

? 較小準(zhǔn)直器

? 可視化操作

? 智能的 Fp 測(cè)試軟件，不需要標(biāo)準(zhǔn)樣品，即可以實(shí)現(xiàn)多種制程的測(cè)試

? 相互du li 的基體效應(yīng)校正模型

? 一鍵測(cè)試按鈕

? 鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)

? 大樣品腔設(shè)計(jì)

? 測(cè)試口an quan fang hu 

? 智能防撞系統(tǒng)

技術(shù)指標(biāo)

? 元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)

? 可同時(shí)分析 24 個(gè)元素，5 層鍍層

? 儀器檢出限：0.005um

? 鍍層厚鍍范圍：0.005um—50um

? 多次測(cè)量重復(fù)性: 2%

? 工作穩(wěn)定度為 3%

（注：多次重復(fù)性實(shí)驗(yàn)和穩(wěn)定性實(shí)驗(yàn)是在準(zhǔn)直器?0.5mm 的條件下測(cè)試的，除小于0.1um 較薄鍍層大多數(shù)情況下 man zu 以上標(biāo)準(zhǔn)，RSD 為相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差）

應(yīng)用領(lǐng)域:

? 金屬鍍層的電鍍、化鍍、熱鍍等鍍層厚度分析測(cè)量

? 金屬表面陽(yáng)極氧化等涂覆層厚度測(cè)試

? 電鍍液成分測(cè)試合、金鍍層成分及厚度分析

? 首飾定性半定量分析以及鍍層厚度分析和檢測(cè)機(jī)構(gòu)、電鍍行業(yè)