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勻膠旋涂?jī)x是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠。
勻膠旋涂?jī)x的使用步驟：
1、開(kāi)機(jī)前準(zhǔn)備：清理殘余物，選擇合適的吸盤，并將樣品放在吸盤正中央。
2、開(kāi)機(jī)與設(shè)定：打開(kāi)電源，設(shè)定涂布的時(shí)間和轉(zhuǎn)速，并啟動(dòng)真空吸附。
3、涂布：滴加光阻劑，并啟動(dòng)涂布過(guò)程。
4、完成涂布后，關(guān)閉真空和電源，取下樣品。
本公司提供的L2001勻膠旋涂?jī)x操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，占地面積小，節(jié)省超凈間的使用面積，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤，無(wú)需真空泵或充氮?dú)猓湍苓_(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂?jī)x可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂，尤其是對(duì)超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象，影響涂層的均勻性。
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