在大規(guī)模成像場景中，常規(guī)掃描電鏡成像速度和自動化程度都無法滿足應(yīng)用需求。例如，在芯片結(jié)構(gòu)成像應(yīng)用中，需要在幾周內(nèi)完成數(shù)百平方毫米區(qū)域的連續(xù)拍攝；在人類腦圖譜研究中，需要對百億級神經(jīng)元進(jìn)行高分辨成像。對于此類場景，常規(guī)掃描電鏡效率嚴(yán)重不足，為解決客戶痛點(diǎn)，國儀量子于近日推出一款專為大規(guī)模成像而生的新產(chǎn)品——高速掃描電子顯微鏡HEM6000。
高速掃描電子顯微鏡HEM6000
高速自動化
HEM6000
HEM6000是一款可實(shí)現(xiàn)跨尺度大規(guī)模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、高壓樣品臺減速、動態(tài)光軸、浸沒式電磁復(fù)合物鏡等技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了高速圖像采集和成像，同時保證了納米級分辨率。面向應(yīng)用場景的自動化操作流程設(shè)計(jì)，使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達(dá)常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的5倍以上?？蓮V泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)、生命科學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)科學(xué)等領(lǐng)域。
圖像采集速度：10 ns/pixel，2*100 M pixel/s
加速電壓：100 V~6 kV(減速模式)；6 kV~30 kV(非減速模式)
分辨率：1.3 nm@3 kV，SE；2.2 nm@1 kV，SE
視場大?。?/span>最大視場1*1 mm2，高分辨微畸變視場32*32 um2
樣品臺精度：重復(fù)定位精度：X ±0.6 um；Y ±0.3 um
產(chǎn)品優(yōu)勢
HEM6000
高速自動化
全自動上下樣流程和采圖作業(yè)，
綜合成像速度優(yōu)于常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的5倍
大場低畸變
跟隨掃描場動態(tài)變化的光軸，實(shí)現(xiàn)了更低的場邊緣畸變
低壓高分辨
樣品臺減速技術(shù)，實(shí)現(xiàn)低落點(diǎn)電壓，同時保證高分辨率
應(yīng)用案例
HEM6000
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