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【重要公告】關(guān)于第三方針對奧法美嘉銷售設(shè)備提供的技術(shù)服務(wù)存在風(fēng)險的通知

【重要公告】關(guān)于第三方針對奧法美嘉銷售設(shè)備提供的技術(shù)服務(wù)存在風(fēng)險的通知尊敬的全體客戶和合作伙伴：作為美國應(yīng)特格微電子公司（Entegris，原PSS）科學(xué)器材的總代理，承蒙各位長期以來對奧法美嘉的信任

2024/11/1

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2024ˉ7

Particle Genius——奧法美嘉新售后服務(wù)號：科技護(hù)航，服務(wù)升級
ParticleGenius——奧法美嘉新售后服務(wù)號：科技護(hù)航，服務(wù)升級在科技日新月異的今天，上海奧法美嘉（Alpharmaca）科技有限公司作為國家高新技術(shù)企業(yè)，正式推出全新售后服務(wù)號“Partic
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2024ˉ3

儀器煥新，智啟未來：《推動大規(guī)模設(shè)備更新和消費品以舊換新行動方案》解讀
近日，國務(wù)院發(fā)布了《推動大規(guī)模設(shè)備更新和消費品以舊換新行動方案》，以在全國范圍內(nèi)推動新一輪設(shè)備更新和消費品以舊換?！斗桨浮穱@“堅持市場為主、政府引導(dǎo)”、“堅持鼓勵先進(jìn)、淘汰落后”和“堅持標(biāo)準(zhǔn)、有序提
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2024ˉ3

2024年第十三屆新能源鋰電池技術(shù)博覽會在上海圓滿落幕
本屆博覽會堅持以全球化視角為產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級搭建合作共贏的橋梁，分享技術(shù)動態(tài)和未來發(fā)展趨勢，成為海內(nèi)外品牌企業(yè)前沿新品、創(chuàng)新技術(shù)的陣地。本屆博覽會堅持以全球化視角為產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級搭建合作共贏的橋梁，分享技術(shù)
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2023ˉ3

誠邀您參與首屆未來顆粒前沿論壇
-INVITATION-誠摯邀請2023年3月31日，首屆未來顆粒前沿論壇將在江蘇省南京市鐘山賓館（江蘇省會議中心）舉辦，展會為期三天（3月31日-4月2日），我們很榮幸受邀參加本次會議。-INTRO

2024ˉ12

蛋白質(zhì)聚集——Nicomp 動態(tài)光散射系統(tǒng)

全文共932字，閱讀大約需要5分鐘摘要：蛋白質(zhì)溶液中的聚集被證明會產(chǎn)生有害影響。對較大的聚集體可以進(jìn)行測量，但對0.150納米到2微米范圍內(nèi)的較小聚集體則難以量化。Nicomp®動態(tài)光散射（DLS）技術(shù)可以證明聚集的存在，但不能提供聚集體絕對濃度的任何

2024ˉ12

LUM穩(wěn)定性分析儀助力穩(wěn)定性評估

米諾地爾屬于難溶性藥物，其粒徑在亞微米到微米級別，分散體系如果穩(wěn)定性差，可較短時間內(nèi)發(fā)生沉降分層。在實際使用過程中，穩(wěn)定性的差異也會影響產(chǎn)品均一性，產(chǎn)品中納米顆粒粒徑的情況。而納米顆粒的粒徑大小會直接影響其生發(fā)效果，是否會滲透，是否會被角質(zhì)層阻隔，是否在毛囊中

2024ˉ12

Nicomp納米激光粒度儀可用于分析顆粒樣品的尺寸和分散性

難溶性藥物，如米諾地爾的粒徑對其后續(xù)藥用效果具有很大影響。溶解在制劑中的藥物滲透角質(zhì)層并深入皮膚組織以及血液中，而過大尺寸的納米顆粒則難以透過角質(zhì)層，進(jìn)而阻止了納米顆粒的滲透。MXD納米顆?？梢愿咝У匕邢蛎?，導(dǎo)致毛發(fā)生長比商業(yè)化MXD溶液更為顯著。此外，納米

2024ˉ11

LUM穩(wěn)定性分析設(shè)備在處方篩選中的作用

1背景摘要：在復(fù)雜注射劑的研發(fā)和制劑開發(fā)中，處方篩選至關(guān)重要，它直接關(guān)系到藥物的有效性、穩(wěn)定性和安全性。本文主要介紹了LUMiSizer穩(wěn)定性分析設(shè)備在處方篩選中的作用，如快速進(jìn)行處方篩選，以節(jié)省研發(fā)時間，并通過兩個案例進(jìn)行了具體分析。在脂肪乳劑的案例中，LU

2024ˉ11

PSI高壓微射流均質(zhì)機(jī)的工作原理與特點介紹

意大利PSI公司生產(chǎn)的高壓微射流均質(zhì)機(jī)按高標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥級別設(shè)計而成，在高壓力、高處理量的前提下依舊能夠保持超低運(yùn)行噪音，其小巧緊湊的機(jī)身適應(yīng)實驗室、小規(guī)模生產(chǎn)及中試、中等規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境；全系產(chǎn)品模塊化設(shè)計，均可通過核心配件的串、并聯(lián)組裝升級為大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)備。由PS

2024ˉ11

日本HM&M的UAM機(jī)型珠磨機(jī)表現(xiàn)出了哪些優(yōu)勢？

常見分散方法的球磨法或砂磨機(jī)，在分散時物料、磨珠與機(jī)體之間的撞擊會對納米晶、混懸劑中的納米顆粒造成損傷，磨損的材料進(jìn)入料液中會變成難以除去的雜質(zhì)，這對料液的純度產(chǎn)生不利的影響，此外，機(jī)械力過大時局部升溫過快，也會導(dǎo)致物料的不穩(wěn)定，影響后續(xù)的使用。日本HM&M的

2024ˉ11

復(fù)雜注射劑之乳劑制備工藝探討

本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共6593字，閱讀大約需要22分鐘引言：高壓均質(zhì)機(jī)對于乳劑制備的作用乳劑通常是由兩種互不相溶的液體，其中一種以微小液滴的形式分散在另一種液體中所形成的非均相分散體系，這些液滴通常直徑在0.1至100微米之間，由乳化劑穩(wěn)定。因此

2024ˉ11

大顆粒（LPC）對拋光效率和良品率的影響 — TEOS層的CMP拋光研究

本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共6324字，閱讀大約需要21分鐘引言：LPC對CMP制程工藝的影響隨著半導(dǎo)體行業(yè)的蓬勃發(fā)展，作為重要工藝段的CMP獲得了廣泛的關(guān)注。而作為此工藝段的重要原料-CMPslurry，更是諸多學(xué)者研究的對象。本文將重點結(jié)合Liu團(tuán)

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