化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備>其它光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備>201R Newport平面刻劃反射光柵
201R Newport平面刻劃反射光柵
- 公司名稱 北京億文谷科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) 201R
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/7/8 9:57:59
- 訪問次數(shù) 77
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣 |
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平面刻劃衍射光柵在特定波長(zhǎng)下以一階 Littrow 結(jié)構(gòu)閃耀，以獲得大效率。刻劃反射光柵特別適用于需要高分辨率的光學(xué)系統(tǒng)。
150 每毫米凹槽數(shù)
500 nm 標(biāo)稱閃耀波長(zhǎng)
2.2° 標(biāo)稱閃耀角
默認(rèn) 1055 光柵母版，需要特定母版請(qǐng)聯(lián)系我們
衍射效率和光柵方向
平面刻劃反射光柵在以 Littrow 結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)附近使用時(shí)（即對(duì)準(zhǔn)以便使主要衍射級(jí)的衍射角與輸入光束一致）有效率，對(duì)于特定波長(zhǎng)，有效的起到了回射器的作用。對(duì)于閃耀光柵，可在與閃耀光柵面垂直角度的 Littrow 條件的波長(zhǎng)處獲得大效率。由于刻劃閃耀光柵不對(duì)稱，因此正確的取向由基板尺寸上的箭頭標(biāo)記來表示。箭頭在基板垂直于刻劃槽的一側(cè)，并且指向三角形槽輪廓的更陡峭的邊緣。類似地，箭頭指向遠(yuǎn)離光柵法線朝向面法線。箭頭應(yīng)指向入射（和衍射）光束。
平面刻劃光柵結(jié)構(gòu)
一般來說，對(duì)于刻劃衍射光柵，槽間距決定衍射角，并且槽深度和閃耀角決定衍射能量在衍射級(jí)之間如何分布。設(shè)計(jì)用于一階 Littrow，Newport 的平面刻劃反射光柵閃耀，以在特定設(shè)計(jì)波長(zhǎng)實(shí)現(xiàn)高的單階衍射效率。在 Newport，我們有三種刻劃引擎全日制運(yùn)轉(zhuǎn)，每種引擎都用于生產(chǎn)高質(zhì)量的主光柵。這些劃線機(jī)提供的光柵具有三角形槽輪廓、極低的羅蘭鬼線和高分辨率。使用金剛石工具對(duì)機(jī)械刻劃單個(gè)槽的蒸汽金屬薄涂層拋光。利用多年研究和制造經(jīng)驗(yàn)而開發(fā)和增強(qiáng)的高保真鑄造復(fù)制過程，我們有能力提供主光柵的副本，其質(zhì)量和性能與主光柵相同。
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