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PHI GENESIS 900 PHI 硬X射線光電子能譜儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

HAXPES硬X射線

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ULVAC-PHI是超高真空表面分析儀器供應(yīng)商。專注于研發(fā)和生產(chǎn)表面分析儀器,包括光電子能譜儀(XPS)、俄歇電子能譜儀(AES)、飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(Tof-SIMS)和動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(D-SIMS)。通過提供獨(dú)T的技術(shù)解決方案,幫助客戶解決各種具有挑戰(zhàn)性的問題,從而加速新產(chǎn)品和新技術(shù)的發(fā)展。產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域包括納米技術(shù)、太陽能技術(shù)、微電子技術(shù)、存儲介質(zhì)、催化、生物材料、藥品以及金屬、礦物、聚合物、復(fù)合材料和涂料等基礎(chǔ)材料。

作為唯1一家能夠同時(shí)提供高性能XPS、AESSIMS全系列表面分析儀器的制造商,ULVAC-PHI在全面性和完整性的表面分析解決方案領(lǐng)域擁有獨(dú)T的地位。

愛發(fā)科費(fèi)恩斯(南京)儀器有限公司成立于202311月,創(chuàng)辦理念是為一.L的商業(yè)產(chǎn)品提供頂.J的創(chuàng)新市場營銷和售后服務(wù)。作為ULVAC-PHI在中國區(qū)域的子公司,負(fù)責(zé)PHI產(chǎn)品在中國的銷售和售后服務(wù)。主要客戶包括清華大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),南京大學(xué),西安交通大學(xué),廈門大學(xué),山東大學(xué),吉林大學(xué),華南理工大學(xué),中南大學(xué)等國內(nèi)知.M高校和科研院所。在全國各地都有銷售合作伙伴,能夠?yàn)槟峁┤?F位的服務(wù)。技術(shù)專員具備多年超高真空和精密電子分析儀器的使用經(jīng)驗(yàn),致力于為合作伙伴提供最.J的產(chǎn)品和服務(wù),以實(shí)現(xiàn)最.D的效益。


表面分析儀器

價(jià)格區(qū)間 面議 儀器種類 進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,地礦,能源,電子/電池,綜合

無需濺射刻蝕的深度探索

下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(diǎn)(QDs),結(jié)合使用XPS(A1 Ka X射線) HAXPES(Cr Ka x射線)對同一微觀特征區(qū)域進(jìn)行分析,可以對 QDs 進(jìn)行詳細(xì)的深度結(jié)構(gòu)分析。XPS HAXPES 的結(jié)合使用,可以對納米顆粒進(jìn)行深度分辨、定量和化學(xué)態(tài)分析,從而避免離子束濺射引起的損傷。

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深層界面的分析

在兩種x射線源中,只有 Cr Ka XPS 能探測到 Y0,下方距離表面 14nm 處的 Cr層。擬合后的譜圖確定了 Cr 的化學(xué)態(tài)。另外,通過比較,光電子起飛角 90°30° Cr Ka譜圖結(jié)果發(fā)現(xiàn)在較淺(表面靈敏度更高)的起飛角時(shí),氧化物的強(qiáng)度較高,表明 Cr 氧化物處于 Y,0, Cr 層之間的界面。

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內(nèi)核電子的探測

Cr Ka 提供了額外的 Al Ka 不能獲取的內(nèi)核電子基于 Cr Ka 的高能光電子,通常有多個(gè)額外的躍遷可用于分析。

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應(yīng)用領(lǐng)域

主要應(yīng)用于電池、半導(dǎo)體、光伏、新能源、有機(jī)器件、納米顆粒、催化劑、金屬材料、聚合物、陶瓷等固體材料及器件領(lǐng)域。

用于全固態(tài)電池、半導(dǎo)體、光伏、催化劑等領(lǐng)域的先進(jìn)功能材料都是復(fù)雜的多組分材料,其研發(fā)依賴于化學(xué)結(jié)構(gòu)到性能的不斷優(yōu)化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析儀器“PHI GENESIS 全自動多功能掃描聚焦X射線光電子能譜儀,具有優(yōu)秀性能、高自動化和靈活的擴(kuò)展能力,可以滿足客戶的所有分析需求。


PHI GENESIS 多功能分析平臺在各種研究領(lǐng)域的應(yīng)用

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