Prisma 掃描電子顯微鏡FEI電鏡是一款簡單易用的一體化 SEM。Prisma 提供*的成像和分析性能，*的環(huán)境掃描模式 (ESEM™ )以及多種配件，使其成為完善的鎢燈絲SEM。

Prisma具有出色的分辨率，其三種獨(dú)立的成 像模式（高真空、低真空和ESEM™ )提供了大的靈活性，可適 應(yīng)用的較廣泛的樣品，包括脫氣的、無法鍍膜的或其他無法 在高真空下觀察的樣品。

當(dāng)今的學(xué)術(shù)和工業(yè)研究實(shí)驗室，希望SEM能夠從較廣泛的樣品中獲得大量數(shù)據(jù)，并提供出色的圖像質(zhì)量。由于大多數(shù)實(shí)驗室都是由多 用戶來操作SEM ,所以對于具有不同經(jīng)驗級別的操作人員而言，設(shè) 備的易用性非常重要。Prisma具有出色的分辨率，其三種獨(dú)立的成 像模式（高真空、低真空和ESEM™ )提供了大的靈活性，可適 應(yīng)用的較廣泛的樣品，包括脫氣的、無法鍍膜的或其他無法 在高真空下觀察的樣品。SE、DBS、STEM、CL等探測器，能夠提 供所有必要的樣品信息。這些探測器可以同時采集和顯示不同探測 器信號，并在短的時間內(nèi)提供探測和結(jié)果。此外，ESEM™可以 在實(shí)際條件下對樣品進(jìn)行原位研究，如液體環(huán)境、加熱'含水或原 位反應(yīng)等各種實(shí)驗條件。Prisma還可以搭載一系列由軟件集成控制 的原位樣品臺，執(zhí)行和控制動態(tài)實(shí)驗。

Prisma 掃描電子顯微鏡FEI電鏡的分析型超大樣品室能滿足對元素（EDS、WDS )和晶體 (EBSD )樣品數(shù)據(jù)日益増長的需求，樣品室支持多個EDS檢測器， 以增加探測效率并消除陰影效應(yīng)。此外，分析型樣品室支持共面 EDS/EBSD和平行電子束WDS的幾何角度，以確保所有技術(shù)的jia空間獲取位置。由于出色的原位檢測能力，Prisma™能夠?qū)^緣樣品或高溫下的樣品實(shí)現(xiàn)可靠的分析。

由于多用戶操作設(shè)備要求所有實(shí)驗數(shù)據(jù)由對電鏡有不同熟悉程度的人員獲得，同時要盡量減少所需的培訓(xùn)時間，因此設(shè)備易用性至關(guān)重要。Prisma™帶有xin的基于Windows 10操作系統(tǒng)的xT用戶界 面，包括用戶指導(dǎo)功能，這一功能能夠幫助和引導(dǎo)用戶與SEM直接 交互。此外，它還包含完整的"撤消"功能，鼓勵新手用戶安心地進(jìn) 行實(shí)驗，而專家用戶可以通過這一功能輕松縮短獲得結(jié)果的時間，Prisma™還支持掃描預(yù)設(shè)、相機(jī)導(dǎo)骯和SmartSCAN™功能， 以進(jìn)一步提高工作效率、數(shù)據(jù)質(zhì)量和易用性。對于日常工作，Prisma™可以通過使用強(qiáng)大的基于Python的腳本工具 Autoscript對操作進(jìn)行自動化運(yùn)行。

這些*的*性能與多用途配件的*結(jié)合，使得Prisma™成為兼顧科學(xué)研究和失效分析的、面向所有行業(yè)或領(lǐng)域的較為全面的 SEM。

主要優(yōu)點(diǎn)：

1、材料自然狀態(tài)下的原位研究：比013?提 供*的環(huán)境掃描模式（ESEM )

2、大限度地縮短樣品制備要求：低真空和 ESEM能力，可實(shí)現(xiàn)^導(dǎo)電和/或含水樣品的 無荷電成像和分析

3、強(qiáng)大的原位分析：通過專門的原位分析樣品 臺，能夠?qū)崿F(xiàn)-165°C至1400°C范圍內(nèi)的原位分析

4、優(yōu)異的分析能力：在一個樣品室內(nèi)可同時使用3個EDS探測器（2個處于180°對 位）、WDS和共面EDS/EBSD

5、非導(dǎo)電性樣品的出色分析：在低真空條件模式下，可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的EDS和EBSD分析

6、高精度的真中心樣品臺，可以實(shí)現(xiàn)大 105。的傾轉(zhuǎn)，適合各種樣品的多角度觀察，尤其是高起伏和拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)樣品

7、易于使用，直觀的軟件：具有用戶指導(dǎo)和撤消功能，使新手用戶可以進(jìn)行高效操作，同時使專家用戶能夠更快速地完成工作，并減少鼠標(biāo)點(diǎn)擊次數(shù)

8、多種選配附件：包括可伸縮的RGB CL探測器' 1100°C高真空加熱臺、uHeater加熱 臺和AutoScript-基于Python的腳本工具 (API)

典型應(yīng)用：                                                    

納米表征：

1、金屬及合金、氧化/腐蝕、斷口、焊點(diǎn)、拋光斷面、磁性及 超輔斗

2、陶瓷、復(fù)合材料、塑料、薄膜/涂層 

3、地質(zhì)樣品斷面、礦物

4、軟物質(zhì)：聚合物、藥物、過濾膜、凝膠、生物組織、植物材 料

5、顆粒、多?料、纖維 原麵呈分析 

6、增濕/去濕 

7、浸潤行為/接觸角分析 

8、氧麵蝕

9、拉伸(伴隨加熱或冷卻）

10、結(jié)晶/相變

主要參數(shù)：

電子光學(xué)：

具有雙陽極源發(fā)射幾何結(jié)構(gòu)的高性能熱發(fā)射SEM鏡筒 

固定目標(biāo)光圈，便于操作

45。物鏡幾何電子光學(xué)

通過穿分抽氣系統(tǒng)，少電子束裙，實(shí)現(xiàn)較精確的分析和大分辨率

備率：

高真空：

-30 kV時為3.0 nm (SE)

-30 kV時為4.0 nm (BSE)*

-3 kV時為8.0 nm (SE)

高真空減速模式：

-3 kV時為07 nm (BD模式* + DBS*)

低真空：

-30kV時為3.0nm(SE)                 

-30kV時為4.0nm(BSE)

-3kV時為 10nm(SE)

環(huán)境真空：

-30 kV時為3.0 nm (SE)

電子束參數(shù)：              

電子束電流范圍：高達(dá)2uA ,連續(xù)可調(diào)

加速電壓范圍：200 V - 30 kV 

放大倍數(shù)：6至1,000,000x