化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>恒溫/加熱/干燥>其它干燥設(shè)備>OTF-1200X-4-RTP-C3HV 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV
OTF-1200X-4-RTP-C3HV 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV
- 公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號 OTF-1200X-4-RTP-C3HV
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2016/4/12 10:16:53
- 訪問次數(shù) 2582
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產(chǎn)品型號 | 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV |
主要特點 | 1、雙層Al2O3纖維鋼構(gòu),無需水冷或風(fēng)冷。 2、內(nèi)爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設(shè)備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。 3、PID控制器 ,可以設(shè)置30段升降溫程序,并設(shè)有過熱保護和斷偶功能。 4、已通過CE認證。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、電源:單相208-240V AC 50/60Hz 10KW 2、石英管:外徑Φ110mm,內(nèi)徑Φ103mm,長380mm 3、加熱元件:8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈Φ10mm,燈長300mm 4、加熱區(qū):300mm 5、工作溫度:zui高溫度1100℃ 6、控溫精度:±0.5℃ 7、zui高升溫速度:RT-800℃時為50℃/s,800℃-1000℃時為10℃/s 8、溫控儀:可控硅(SCR)PID自動控制 9、真空法蘭:不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫O型圈密封,長時間在>900℃條件下運行必須采用水 冷,循環(huán)水流量為0.5m3/hr 10、真空度:10-2torr(機械泵),10-5torr(分子泵) 11、質(zhì)量流量計:3個,MFC1范圍0-100sccm,MFC2范圍0-200sccm,MFC3范圍0-500sccm,精度1±%FS 12、混氣罐:Φ80mm×120mm |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:爐體760mm×330mm×530mm,真空混氣系統(tǒng)600mm×600mm×597mm 重量:爐體45kg,真空混氣系統(tǒng)75kg |
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